PSX307A
Technologie de nettoyage plasma parallèle au niveau de plaque de plaques.
Description
Tableau des spécifications
| Numéro de modèle | NM-EFP3A |
|---|---|
| Méthode de nettoyage | Méthode de rétro-sputtering RF à plaques parallèles |
| Gaz pour décharge électrique | Sur [Option : O2, O2 + He] |
| Dimensions du substrat | L 50mm × W 200mm to L 350mm × W 350mm |
| Épaisseur du substrat (mm) | 0,1 mm à 2,0 mm |
| Source d’alimentation | CA monophasé 200 / 208 / 220 / 230 / 240 ± 10V, 50 / 60Hz, 6,00 kVA |
| Distributeur d’adhésifs | 0,49MPa、25 L/min [A.N.R] |
| Dimensions (mm) | W 900mm × D 1150mm × H 1650mm |